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半导体设备物理气相沉积(PVD)-磁控溅射仪、电子束、热蒸发镀膜机、化学气相沉积(CVD)-MOCVD、PECVD、LPCVD、超高真空系列-分子束外延系统(MBE)、激光分子束外延系统(LMBE)
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