所谓一步错，步步错。国内芯片技术已经落后了一步，如果任由国际高端芯片技术继续发展，而我国却毫无进展的话，只会落后的越来越多。芯片目前又是各国发展的战略核心，欧盟投入几百亿美元，漂亮国联合各大巨头成立半导体联盟，台积电和三星到处投资建厂。可以看得出来，芯片无论是从技术，还是制造水平，还是产能都将会处于一个高速发展的状态，不会给国内追赶的时间。
关于光刻机，吴汉明院士说的可能“不好听”，但是事实。
既然芯片的发展速度快，我们就要发展的更快，才能追赶的上，这是很多人的心声。但是最近，工程院院士吴汉明却说道：全球任何一个地区，任何一个国家想要独立生产光刻机，尤其是EUV光刻机是明显不现实的。身为工程院院士，自然不会乱说话，而且说话一般都是有专业分量的。
但是联系到最近国
内研究所和企业能够生产出来制造55nm的国产光刻机，接下来还会交付28nm的国产光刻机的消息。吴汉明院士说的话是否有些自相矛盾？事实上，他并没有说错话。我国目前虽然在国产光刻机的道路上已经迈出了坚实的步伐，但是从根本而言，我国国产光刻机并非是完全自产，其中生产所需要的很多零件和相关技术专利都是舶来品，我国目前没有自产能力，一旦有关零件或这技术被断供，封锁。我国是一样无法制造出国产光刻机的。总结而言，就是我国现在缺少一条系统光刻机供应链。
中国院士：独立完成光刻机不现实，他是在“泼冷水”吗？
就像吴汉明院士所说，没有任何一家能够完全自主生产光刻机，但是为何我国会怕断供封锁，而其他国家却不怕呢？要回答这个问题，我们先要了解一下EUV光刻机的生产有多难。
就吴汉明院士所说，EUV光刻机所涉及的零件大概有十万个，其制造所需要的各项技术不仅非常高端，而且来自于欧洲，漂亮国和日本等众多国家，EUV 光刻机的生产商在全球超过五千家供应商提供零件和技术。这些都是制造一台光刻机的必备条件。不仅如此，光刻机要求在效率和精密上做到双重保障，不然根本无法实现量产或者高端芯片的生产。我们都知道现在芯片已经来到3nm的水平，这是什么意思呢？3nm芯片上某种元件的栅极宽度，这个数字越小，同样大的芯片便可以容纳更多的元件，性能也就更优秀，同时耗能也会变得更少，对于人工智能来说，芯片越小，意味着同样地产品，智能水平越高。
可以说，随着人们对智能的要求越来越高，芯片工艺越来越小是必然的。再者，全球都需要芯片，但是光刻机就那么多，为了保证产能，光刻机的效率必然是要非常地高。据悉，目前的EUV光刻机可以完成7nm芯片的制造，也就意味着雕刻是在7nm的单位内进行，而圆晶则是快速地移动，每次移动为十厘米，可以想象光刻机的雕刻速度有多快。不仅如此，因为高端芯片自身的要求，光刻机雕刻时还不能出现大的误差，而这个误差是以nm为单位计算的。更离谱的是每一个芯片都需要经过数千次这样的雕刻过程才能完成，期间出现一次误差都会使得芯片报废。
EUV光刻机的技术水平有多高，这么一番解说想必你也就明白了。EUV光刻机可以说是国际所有顶尖芯片技术的集合产物，这也使得它的价值极高，相当于一台印钞机，只要能够不断生产芯片，就等于不断有巨额利润产出。
那为何我国害怕被封锁呢？大概有两方面原因，一是国内自身水平不够，没有核心技术，只能被动使用国外的光刻机。换一种方式来说就是：国内可以被封锁，ASML公司失去的只是国内的市场，不影响光刻机自身的生产。但是国外那些拥有技术的国家，例如韩国，漂亮国，一旦ASML对他们进行封锁，那么首先出问题的就是自身，很可能会直接导致自己的光刻机无法再生产，从而失去整个光刻机业务。另一方面的原因则是，我国没有在高端芯片产业的利益圈内，而芯片强国则早早就把握了芯片产业的上流大头利润，其他国家只能分食一些下流少量利润，一旦我国想要进入高端芯片领域，便是动了这些国家的奶酪，遭到封锁也就不稀奇了。
所以摆在我国光刻机道路的难题不是说我什么都要自己产，而是掌握自己的技术，有自己的完整供应链可以避开漂亮国的封锁。说到底是技术问题和供应问题，这两方面如果能取得突破，芯片的道路也会好走很多。而在实现这些目标的过程中，我国最大的优势就是不放弃的精神和庞大的国内市场，不放弃的创新精神是实现技术自主的关键，而庞大的市场则是和国外企业磋商的砝码，能够在引进技术和供应方面能够有更多的话语权，毕竟漂亮国不是所有国，不可能什么都能说得上话，再者，就算漂亮国国内企业，也是要以利益为先的。总的而言，目前是开放的世界，相融的世界，漂亮国的做法本就是逆时代而行，不可能长久持续下去。
