国产芯片的明显短板

造芯是近几年国内最为火热的话题，无论是国家的相关政策，还是一众半导体公司，都加大了对芯片自主制造的重视力度。这不仅是因为芯片在人们的生产生活中，扮演了极为重要的角色，还源自于美国制定的规则，让国内意识到了芯片国产化的必要性。

在去年九月份，美国擅自出手干预各大芯片公司的进出口事宜，通过限制台积电等代工厂的出货，来针对华为以及所有国产企业。这给国内带来了一些不容忽视的影响，由于国产芯片的起步较晚，在制造环节显得力不从心，每年都需要从外界大量进口。

而随着美国规则的持续作用，国内对进口的依赖逐渐演变成了一种“卡脖子”的问题，就算有钱别人也不乐意卖给我们。于是国内开始奋发图强，决定提升芯片的自给率，通过加大研发投入和对半导体公司的扶持力度，来促进国产芯片的崛起。

但是就目前的情况来看，有一大难题摆在国内面前，同时也是国产芯片最明显的短板之一。这个难题指的就是芯片制造过程中需要用到的核心设备光刻机，国内之所以迟迟无法造出先进的芯片，就是因为光刻机的数量严重不足，而且时至今日连一台高端光刻机都没有！

很难想象，偌大一个国家，居然被光刻机给难住了，难道这种设备真的无法攻克吗？其实国内也有一家比较知名的光刻机厂商，那就是上海微电子，之前有知情人士表示，今年上海微电子将会交付28nm的光刻机，虽然算不上先进，但是至少能弥补一下国内的缺口。

不过，与全球顶尖的光刻机巨头ASML相比，上海微电子就有点不够看了，前者独有的EUV光刻机，最高能满足5nm芯片的生产，是当前世界上最精密的设备仪器。想要追上ASML的脚步，单靠一个上海微电子肯定是不够的，于是国内很多公司和机构都展开了布局，例如华为和中科院。

院士发声，对国产光刻机泼冷水？

对此，大部分国人都感到非常期待，因为华为和中科院的实力摆在那里，有了它们的助力，人们都相信国产光刻机的突破指日可待。但就在前段时间，某次大会上中国院士吴汉明公开发声，并不看好国内对光刻机的布局，他觉得这样做不太现实。

具体来看，吴汉明院士表示，一台最普通的光刻机，含有超过10万个精密零部件，需要来自于全球各地的供应商协同合作。就拿ASML的光刻机来说，其光源技术是由美国企业提供的、材料来自于日本、光学系统出自德国，可以说是各个国家顶尖科技成果的结合体。

这样的设备对于国内而言无疑是一个巨大的挑战，想要靠自己的力量完全攻克光刻机，可能性很低。显然，吴汉明院士的话不无道理，但是有些不明真相的人却产生了争议，他们在想：中国院士公开发声，难道就是为了对国产光刻机泼冷水？

其实并非如此，吴汉明院士的观点让国内看清楚了光刻机的重点和难点问题，虽然之前确实没有任何一个国家能单独造出光刻机，但是在国内众多半导体公司和相关机构的支持下，国产光刻机未必不能成为现实。

正所谓知己知彼，方能百战不殆，吴汉明院士让国内明白了自身和顶尖水平之间的差距，只有虚心接受并继续努力，才能慢慢抹平，从而实现真正的崛起。所以说，吴汉明院士不是在对国产光刻机泼冷水，只是道出了国内的不足之处而已。