中微半导体突破3nm蚀刻机

在芯片制造过程中，技术与设备是两项不可或缺的关键条件，如果只有技术而得不到设备的支持，那么根本造不出来任何芯片，反之亦然。因此，对于大多数半导体公司来说，要想成为一家合格的芯片代工厂，必须掌握先进的技术，并拥有充足的设备供应。

举个简单的例子，台积电之所以能常年在全球芯片代工市场占据绝对领先的地位，就是因为它的技术实力足够强，而且和很多半导体设备厂商都建立了紧密的合作关系。反观我们国内大陆的中芯国际，与台积电相比技术差距并不大，只是设备方面存在一些短板。

不过，随着国内对芯片行业越发重视，国产半导体设备也迎来了更大的发展空间，其中由中微半导体推出的蚀刻机就是典型代表之一。蚀刻机是芯片生产环节中的必备机器，虽然不如光刻机那么出名，但是同样能发挥出重要的作用，各大代工厂都离不开它。

而中微半导体则是国内乃至全球顶尖的蚀刻机巨头，其精度水平达到了量产5nm的阶段，目前中微的5nm蚀刻机已经被台积电正式投入使用。除此之外，中微还致力于进一步的研发工作，5nm蚀刻机并不是它的终点，新一代的3nm蚀刻机也取得了突破。

据了解，中微半导体的3nm蚀刻机如今还处于试产阶段，虽然没有实现真正的量产，但是台积电等代工厂已向中微提交了订单，要不了多久就能看到成品诞生。这很好地反映出了中微半导体的出色实力，也证明了只要国内足够努力，半导体设备的难题就会被慢慢攻克。

国产14nm光刻机也要来了？

既然蚀刻机已经达到了3nm水平，那么光刻机又发展到了哪个阶段呢？据国内最新消息显示，3nm蚀刻机之后，国内的14nm光刻机也迎来了进展，国产芯片的短板正在被逐一突破！对此，很多国人都表示，这是否意味着国产14nm光刻机也要来了？

与蚀刻机相同的是，光刻机也在芯片制造过程中扮演了关键性的角色，甚至其重要程度比蚀刻机还要高。因为半导体行业存在一条基本认知，没有光刻机就无法生产出任何芯片，而先进芯片往往需要精度更高的光刻机，这么多年来始终都没有被打破。

我们国内最大的光刻机制造商是上海微电子，早在去年下半年的时候，上海微电子就表示，自主研发出的28nm光刻机将于今年投入使用。这代表国内的光刻机水平已经推进到了28nm精度，只要再次完成突破，就可以达到14nm，进而实现更多芯片的自主化生产。

虽然目前来看，上海微电子对14nm光刻机的研发还没有什么头绪，但是国内有很多供应商都传来了关于14nm光刻机的好消息。比如说华卓精科的双工作台、长春光机研究所的光源技术等等，这些都是14nm光刻机的重要组成部分，国内已有明显的进展。

至于光学镜头方面，由于被卡尔蔡司和美国企业卡住了脖子，国内还有待提升，但只是一个镜头而已，肯定难不倒国内这么多公司。因此，现在国产14nm光刻机可谓是万事俱备，只欠东风，只要上海微电子完成技术突破，它的到来就是指日可待了。

不难看出，在国内举国支持的大环境下，如今国产芯片的短板问题已经得到了有效的改善，无论是3nm蚀刻机，还是14nm光刻机，都标志着国产技术即将崛起，谁也无法阻拦。