例如华为的芯片有一段时间供应不上，逼得华为不得不转型。而如今中国的科技公司，在耗时十一年后，终于打破了美国的技术封锁，研制出芯片制造的关键设备，那就是刻蚀机。
众所周知，芯片的制造有三个设备十分重要，包括光刻机、刻蚀机以及薄膜沉积设备。但由于技术垄断，中国想在光刻机和薄膜沉积技术上有所突破十分困难。因此只能另辟蹊径，中国在刻蚀机技术上投入了很多。如今刻蚀机的技术被中国企业所掌控，而且十分先进，而掌握这项技术的企业叫中微半导体。
据了解，中微半导体在2015年就研发制造出了5nm刻蚀机。这对中国的半导体行业影响巨大，因为这是中国第一台自主生产刻蚀机，意味着中国有生产芯片的设备了。但中微半导体的研究之路并不顺畅，早年间，美国便对中国的刻蚀机出口做了限制，还对中国进行技术封锁，研究环境十分艰难。但中微半导体在尹志尧的带领下，从2004年突破重重关卡，终于在2015研制出了5nm刻蚀机，打破垄断。
中微半导体在世界上也很有影响力，几年前生产的5nm刻蚀机，是世界上第一台5nm刻蚀机。去年该公司在5nm刻蚀机领域上又有新的突破，而且通过了台积电验证。说明5nm刻蚀机的性能以及质量都比较好，可以运用到生产线中。如今中微半导体已经有了台积电下的订单。
而中微还在继续研究，主要针对3nm刻蚀机，若是3nm刻蚀机被成功研制出来，那么未来的刻蚀机技术，就还在中国的掌握之中。
虽然中国在半导体行业上，与其他国家有差距，但5nm刻蚀机的出现，给了中国半导体行业发展的新希望。它证明了中国的技术也不差，中国的企业也可以研制出先进的产品。
相信大家和我一样作为中国人，始终相信中国在科研方面不比他国差。我们始终相信，中国早晚在半导体行业会有其他突破！不再受制于任何人！
