要知道当前全球芯片制造最先进的工艺就是5nm，也就意味着国产刻蚀机，已经达到了国际最先进的水平。
相比于其它拉胯的国产半导体设备，国产刻蚀机，可以说是真正的一骑绝尘。因为其它的国产半导体设备，大多还在28nm，有些达到了14nm，甚至还有更落后的，还处在90nm。但总体来看，除了刻蚀机外，就没有进入10nm及以下工艺的设备。
为何国产刻蚀机这么强？这要从中微半导体的创始人尹志尧博士说起。尹志尧博士在创立中微半导体之前，先后在英特尔、泛林、应用材料等半导体行业的国际巨头工作。
对于芯片制造、半导体设备等技术相当的熟悉和了解，并且在硅谷打拼的20多年，尹志尧个人在半导体行业拥有86项美国专利和200多项各国专利，被誉为“硅谷最有成就的华人之一”。
特别是最后工作的应用材料，本身就是全球排名第一的半导体设备厂商，最擅长的就是刻蚀设备，另外在沉积、离子注入、CMP、匀胶显影等领域也具有领先地位。
所以说尹志尧博士，本身在半导体领域就有着深厚的积累，再加上他在2004年回国创业时，带回了15名专业海归精英，一起创办了中微半导体。在当时，这件事情还震惊了硅谷。
有经验，有人才，再加上有技术，所以中微半导体的进展非常迅速，2004年创办，2007年就研发出了第一代介质刻蚀机，并且是首次采用可单台独立操作的双反应台，效率甚至比国外同类产品还要高30%。
而借着双反应台，中微半导体也是一炮而红，再加上技术不输于国外产品，所以也得到了一些芯片厂商的使用，比如台积电就一直有采购中微半导体的刻蚀机。
可惜在芯片制造领域，一种设备先进没有用，毕竟需要的设备几十上百种，芯片制造不遵循长板理论，像一只水桶一样，是遵循短板理论的。
所以目前国内芯片制造水平，不跟着刻蚀机的5nm工艺走，而是跟着其它落后设备走的，真是可惜，要是其它半导体设备都像国产刻蚀机一样，达到5nm，那该多好啊。
