中国巨头取得关键材料突破
芯片制造是一项十分复杂的环节，如果算上每一次大小步骤的话，至少有上千道工序。对一般企业而言，想要进军芯片制造领域并非易事。别的不说，单单是购买一台EUV光刻机就需要1.2亿美元了。
这些芯片制造设备可谓是缺一不可，不过重要的不只是光刻机，还包括芯片材料光刻胶。
美日两国在光刻胶市场地位达到了垄断级别，就连全球第一芯片代工厂台积电都需要从日本进口光刻胶。能够进入到台积电的生产线，就足以证明其高端的品质了。作为芯片制造环节中需要用上的重要材料，中企巨头也成功打破垄断，攻克芯片关键材料。
根据集微网消息可知，国内光刻胶公司飞凯材料传来喜讯，目前该公司正在自研的光刻胶产品已经处于客户验证状态，具体包括i-Line光刻胶和Barc抗反射胶。
飞凯材料i-Line光刻胶的投入应用，可以使其成为业内专业的半导体集成电路制造材料的供应商。在国内半导体材料生产、销售和研发方面，飞凯材料是有一定地位的。而且在技术积累上，同样不可小觑。
截至去年年底，飞凯材料积累了356篇专利，全年研发投入1.36亿元，同比增长12.13%。去年总共实现了18.64亿元的营收，同比增长23.17%。整体来看，飞凯材料是呈上升增长趋势的，相信只要有足够的时间，还能取得更大的关键芯片材料突破。
中国光刻胶的实力
光刻胶是芯片制造过程中必不可少的材料，对芯片集成电路可以起到制膜，保护作用，从而让芯片保持正常性能和运行。高端光刻胶几乎被日本垄断，我国其实一直在突破，并取得了不错的光刻胶实力水平。
除了飞凯材料光刻胶产品被用于客户验证之外，晶瑞股份、上海新阳、南大光电等中国半导体材料巨头都有不同程度的突破。
比如晶瑞股份在购得一台ASML光刻机之后，可以对高端28nm光刻胶展开研究。进一步提升国产高端光刻胶领域的实力。另外晶瑞股份的电子级双氧水也首次实现国产化，或达到国际水准。
再看上海新阳，这家巨头曾购买多台ASML光刻机，并接连到货。有了这些ASML光刻机的支持，对国产光刻胶的发展是有利的。
而南大光电自研的ArF光刻胶已通过客户验证，达到良率标准。综合来看，中国光刻胶的实力并非处于空白阶段，而是在逐步打破垄断，并一步步迈向超越。
危机下的机遇
受全球缺芯影响，光刻胶不断涨价，因为光刻胶重要性甚至不输光刻机，如果没有光刻胶，可能初步的芯片制造环节都无法进行。在芯片缺货状态下，光刻胶也成为了很多芯片制造企业哄抢的产品。
由于美日国家对光刻胶产品的把持力度，促使我们不断突破先进光刻胶技术。这是危机下的机遇，如果能把握住这份机遇，拿出行业领先的光刻胶，一定能实现逆势增长，稳站行业龙头地位。
对国内的晶瑞股份、飞凯材料、南大光电、雅克科技、强力新材等巨头来说，都是难得的机遇。
而今飞凯材料已经传来好消息，产品已用于客户验证，也期待其余的国产企业能再次打破垄断，为国产光刻胶的崛起，持续攻关。
