一提到国产芯片制造的困境，很多人会自然而然地想到光刻机，作为制造芯片的最核心设备，中国在光刻机的研发上才刚刚起步，这也导致了国内始终无法制造出高端的芯片，整条芯片产业链也要高度依赖于国外的技术。
自研光刻机也成为了目前最大的难题，不过制造芯片过程中所使用到的关键设备不仅仅只有光刻机，在比肩光刻机的刻蚀机领域，中国已经实现了技术突破，也宣告着国产重器打破了欧美的技术垄断。
刻蚀机实现技术突破
根据IT之家在4月6日传出的消息，由中国优秀半导体企业中微公司生产的刻蚀机设备，目前已经进入到了客户的7nm、5nm的生产线当中，要知道5nm的芯片已经是全球最为顶尖的工艺了。
在5nm的芯片刻蚀机成功研发出来以后，也宣告着中国已经打破了欧美国家在该领域的技术封锁，在该领域目前我们也已经拥有了一定的优势。
刻蚀机的作用
为什么说刻蚀机是比肩光刻机的存在呢？我们先来了解一下芯片制造过程中需要用到的设备，光刻机、蚀刻机以及薄膜沉积设备是三大核心设备，虽然光刻机的研发难度是最大的，但三个设备在芯片制造过程中都是缺一不可的。
光刻机的主要作用是将电路结构复制到硅材料上，而刻蚀机则是继续对这些电路结构进行细微的调整，而这个步骤则是影响芯片整体性能的关键，这也是光刻机无法完成的步骤，因此说它是比肩光刻机的存在一点都不为过。
随着全球出现了不同程度的缺芯状态，目前各大芯片代工厂都在扩大生产规模，在不断扩大的产能以及先进制程工艺的推动之下，未来对于刻蚀机的需求也将逐渐增大。
而相对而言刻蚀机的制造难度要比光刻机要低，这也给国内半导体企业率先突破提供了契机，就看我们能否把握住这次机会，掌握制造芯片其中之一的核心部件，这样也能够减少对于欧美技术的依赖。
中国半导体领域迎来飞速发展
刻蚀机技术虽然不难，但是核心技术一直控制在美、日的企业手上，对于我们他们一直都是严防死守，我们也只能被迫花高价去入手，虽然我们在该领域的起步比较晚，但发展速度却让他们刮目相看。
早在2017年的时候，中微半导体就已经打破了相关技术封锁，生产出来的7nm刻蚀设备就已经进入到了国际的一流集成电路生产线，而随着中微的5nm刻蚀机再次传来好消息，意味着我们在该领域已经跻身世界一级梯队了。
在突破了先进的技术之后，中微公司的营收同比增长了58.49%，突破了12.89亿元，从市场反馈上可以得知，目前中微半导体已经得到了国际的认可，而在刻蚀机领域，不仅仅只有中微半导体一家企业在研发，目前很多国内厂商也在奋起直追。
中国半导体企业在发展过程中都异常的艰难，不仅要应对欧美国家的技术限制，所有的技术都要自主研发，而中微半导体就是经过了17年的打磨之后，才取得了如今这样的成就，当然这也离不开国内半导体企业之间的合作。
