ASML对光刻机的垄断

一提起ASML这家公司，就少不了对光刻机问题的讨论，因为截至目前，ASML仍然是全球最领先的光刻机厂商。普通的DUV光刻机就不多说了，ASML每年都能卖出去很多台，而在更先进的EUV光刻机方面，ASML更是占据了绝对垄断的地位。

EUV与DUV光刻机最大的区别就在于前者使用的光源是极紫外光，而后者的光源就比较普通了，为深紫外光。可能很多人都不明白极紫外光和深紫外光到底有什么不同，如果从实际应用的角度来看，由极紫外光刻机生产出来的芯片要比深紫外光刻机更高端。

举个简单的例子，在如今的半导体行业，7nm和5nm 制程的芯片代表着最高工艺水平，而要想成功量产出这两款芯片，必须得到EUV光刻机的支持。换而言之，ASML制造出的EUV光刻机是生产7nm和5nm，甚至是3nm芯片的核心设备，无法被代替。

正因于此，对于全球的芯片制造产业来说，ASML扮演着一个非常重要的角色。如果未来某天ASML无法再保证DUV或者是EUV光刻机的正常供应，那么像台积电、三星等世界顶尖的芯片代工厂都会受到不利的影响，半导体行业的发展也会陷入瓶颈。

作为人类能生产出的最顶尖的机器设备，光刻机的重要性已经不需要再多说了，ASML仅凭这一项业务就能在半导体市场站稳脚跟，并且还享有很大的话语权。尤其是在我们国内市场，国产芯片之所以迟迟无法崛起，就是因为缺少光刻机的支持。

虽然国内也有一家光刻机厂商，名为上海微电子，但是目前它能生产出的最先进的光刻机精度只有22nm，与ASML相比还有一定的差距。所以就如今的情况来看，如何突破到更高精度的光刻机，是国内芯片事业实现自主化目标的首要问题。

清华大学正式宣布好消息

光刻机的精度主要取决于光源的波长和功率，这意味着只要国内攻克了极紫外光技术，就很有可能独立生产出EUV光刻机，打破ASML的垄断。那么现在国内有没有可能掌握极紫外光技术呢？答案是肯定的！

2月25日，据国内最新消息显示，ASML也没料到，关于光刻机问题，清华大学正式宣布好消息！据了解，在经过长时间的刻苦钻研后，清华大学的研发团队在新型加速器光源“稳态微聚束”领域取得了重大突破，或许能帮助国产公司攻克极紫外光的难题！

所谓的加速器光源指的就是，光子通过加速可以实现从太赫兹到极紫外光之间不同的波长，可以为光刻机的研究提供最基本的技术支持。只要光源问题彻底解决了，那么国内的光刻机研究就会迈向下一个阶段，国产EUV光刻机的诞生也不只是说说而已。

毫无疑问，对于国产芯片事业而言，清华大学宣布的这项技术成果是一个非常好的消息，如果运用得当，将成为国内芯片产业全面崛起的“催化剂”。而ASML对此肯定高兴不起来，它也没料到，国产光刻机和光源技术能取得这么大的进步。

从清华大学的突破中不难看出，如今国内对芯片和半导体行业的重视程度非常高，无论是众多国产企业还是各大研究机构，都投身到了这项伟大的事业中。相信将来不仅仅是清华大学，会有越来越多的好消息传来，国产芯片的崛起不只是一个梦想！