光刻机要来了
国产芯片半导体行业一直在努力自研，争取将自主技术提升到国际水准。但在此之前，还是离不开从国外进口光刻机设备。我国自产的光刻机水准大概是在90nm到28nm，涉及光源为ArF，距离高端的EUV极紫外光源还有一定的距离。
在没有取得高端技术突破前，从国外进口是最好的选择。为了获得ASML生产的光刻机，我国多家企业都花费了不少心思。
比如之前晶瑞股份从韩国SK海力士手中购买了一台二手ASML光刻机，上海新阳购买的三台光刻机也即将到位。不过需要注意的是，这些光刻机都不是最高端的EUV光刻机，制程大概是在中低端范畴，并且有不少是二手设备。
但是这一次全新的光刻机要来了，并且还是中高端的DUV光刻机设备，远胜之前其余企业采购的设备。
由国内芯片巨头中芯国际豪掷78亿元，向ASML采购了DUV光刻机设备。据悉，中芯国际花费了12亿美元（约78亿元人民币）和ASML签订了采购协议，双方就DUV光刻机展开交易。
这笔交易是不受美国影响的，相信很快这些光刻机就要来了。而且光刻机到货的意义也十分重大。
光刻机到货的意义
或许有人质疑，这次中芯国际采购的光刻机又不是最先进的EUV光刻机，还有必要花这么多钱吗？事实并非如此。
就目前为止，即便到货了EUV光刻机，以国内企业掌握的技术，也无法用EUV光刻机制造5nm芯片。因为不具备高端芯片工艺制程技术，而DUV光刻机已经是能够使用的最高技术设备了。
所以有了这些光刻机，能够生产出当前掌握的技术工艺芯片，包括14nm，12nm和更进一步的7nm。
这第一个意义就在于此，保证成熟工艺芯片的生产。另外顺利的话，中芯国际计划在4月份试产7nm，靠DUV光刻机就有一定的条件实现。
第二个意义是扩产，中芯国际在2021年期间会继续扩产芯片生产线，这就需要更多的光刻机支持。目前中芯国际在上海新建一座12英寸晶圆厂，也在北京投资了500亿元，破土动工造晶圆厂。
随着未来这些工厂的建厂，还有光刻机的到货，中芯国际的产能会进一步提升。从而占据更多的市场份额。
总的来看，中芯国际未来到货光刻机的意义分别在保障工艺和扩建产能，两大意义都至关重要。
中国芯正加速前行
中芯国际代表我国最强的芯片制造水准，是国内唯一能量产14nm制程芯片的龙头企业。如今豪掷78亿元进购DUV光刻机，证明了中国芯正加速前行。
有关注的人就知道，我国已经加大对半导体产业的扶持力度，要攻克光刻机，芯片等技术难题。
不仅有中科院入局光刻机，还有定下了70%芯片自给率的目标。现如今中芯国际耗费数十亿购买光刻机，未来随着芯片产能的增加，实现定下的芯片自给率目标无疑又更进一步。
全球半导体都在迎来变局，我国同样没有懈怠。之前有90家中企联合成立全国集成电路技术委员会，后来又有在基带、AI、云服务、SOC集成芯片等领域传来突破的好消息。
中国芯正加速前行，期待中芯国际购买的光刻机能早日到货，投入生产。
