要知道，芯片的诞生可不是一件容易的事情，作为现代工业文明最顶级的智慧结晶，一颗芯片的产生，要经过硅晶圆制作、集成电路设计、光刻、蚀刻、等离子注入以及封测等多个环节，在这些生产芯片的环节里，任何一个环节出现了问题，那么都将导致无法生产出半导体芯片来，所以芯片的生产也是一个系统的复杂工，想到打造自主化的芯片产业链更是不容易！
目前国产科技企业在半导体芯片的设计领域已经取得了非常不错的成绩，像华为的海思半导体芯片公司就已经成功跻身为全球排名前十的芯片设计企业行列之中了，但是国内在芯片的生产领域却十分的薄弱，因为缺乏先进的光刻机，所以我们始终都无法生产出顶尖的“中国芯片”，而光刻机也因此成为了限制国产科技企业在半导体芯片领域发展的一大关键因素，目前世界上最顶尖的光刻机都是来自于ASML公司生产的EUV光刻机，这一光刻机的造价不菲，供不应求，再加上不对我国出售，所以我们想要直接购买EUV光刻机几乎是不可能的，那么我国只要研发出EUV光刻机，就能成功生产出顶尖“中国芯片”吗？
然而事实并非如此。要知道EUV光刻机的技术研发是一回事，而芯片制造则是另外一回事。在国际市场上，就连ASML公司也曾表示：就算是公开EUV光刻机的图纸，那么中国也不可能造出EUV光刻机。尽管很多人都不相信ASML公司的话，那么我们也要从实际出发，要知道ASML公司能公开说出这样的话，自然也是有他的道理的；一台先进的EUV光刻机其中所包含的零部件高达数十万个，而这些零部件则是来自于全球各地的顶级科技企业所生产，每一个零部件都代表着现代工业文明的最顶级水平，所以想要依靠一己之力就研发出EUV光刻机，显然是不可能的，而芯片的具体生产工作则更加的复杂，需要系统的合作才能生产出芯片来！
光刻机作为整个芯片生产领域最为核心的设备，也是最难攻克的一道技术难题，但不管怎么说，我们也要先拿下光刻机的技术研发才行，只有这样，国产科技企业才能在后续的芯片生产领域进行研发，而目前包括中科院和清华大学等国内顶级的科研机构都已经成立了专门的工作小组来研发光刻机这些卡脖子的技术，相信要不了多久，我们在光刻机技术领域就能取得突破！
