稍微关注科技界的小伙伴应该都知道，目前EUV光刻机全球只有一家厂商可以进行生产，那就是荷兰的ASML，而在2019年ASML的EUV光刻机的出货量为26台，2020年的数量达到了31台，预计在2021年的出货量为40台，但是在往年的争夺中，我们就能看出EUV光刻机设备的稀缺。
2020年ASML刚宣布了第二代EUV光刻机的突破，三星副会长李在镕就直接奔赴荷兰商讨订购事宜，但是最终也没有收获显著的成效。在以往的光刻机出货中，台积电每年都占据着半数以上的份额，这也间接地成就了如今的台积电。
面对着芯片工艺的向前迈进，将会有越来越多的企业加入到EUV光刻机的采购阵营，而这次加入的企业就是韩国企业SK海力士，这家企业同样是芯片生产商，在全球半导体企业排名中占据着第9位。
但是SK海力士的性质和台积电还不太相同，手机芯片是台积电的主要业务，而SK海力士的强项是DRAM芯片，属于存储芯片的一种，在该领域占据着全球第三的位置。
在今年的2月初，SK海力士就宣布了采购EUV光刻机的决定，而在近期SK海力士又进一步表示，将斥资4.75万亿韩元，约合274亿元人民币，在未来5年内采购20台以上EUV光刻机用于芯片生产。
在我们以往的认知中，EUV光刻机是7纳米及7纳米以下先进制程工艺的必需品，SK海力士的制程工艺也达到7纳米了吗？实际上，SK海力士的制程工艺并没有达到7纳米，它这次采购EUV光刻机主要是用于10纳米的DRAM芯片生产。
在2月初，SK海力士斥资31亿美元建造的M16工厂已正式竣工了。这次的工厂建设历时两年，是目前SK海力士规模最大的工厂。在这座工厂的生产计划中，将于今年的6月份运用EUV光刻机，对第4代10纳米DRAM芯片进行生产。
此时很多小伙伴可能会问，为什么10纳米制程工艺的芯片还需要用到EUV光刻机呢？这就涉及到EUV光刻机和DUV光刻机的区别。
要知道，目前最先进的DUV光刻机，波长为193纳米，最高可以生产7纳米的芯片。而EUV光刻机的波长为13.5纳米，7纳米以下芯片的生产必须要用到EUV光刻机。
但是这并不意味着7纳米以上的工艺不能用EUV光刻机。更重要的是，EUV光刻机不仅能实现更高精度的刻画，还能提高芯片生产的效率和精度。因为越是高级的光刻机，其光源波长就越小，也就意味着曝光次数的减少和曝光精度的提高。
而这次SK海力士采购EUV光刻机用于生产，目的就在于提高芯片电路的刻画精度。不过，从目前SK海力士的EUV光刻机采购计划来看，其采购数量很大程度上会对三星和台积电造成不小的冲击。
因为三星此前也就EUV光刻机的采购制定了计划，在目前EUV光刻机数量不足20台的基础上，预计到2025年采购100台EUV光刻机。而台积电目前拥有50台左右的EUV光刻机，同样有采购目标，预计到2025年采购180台。
不过，ASML的产能是有限的，根据统计数据显示，荷兰ASML至今为止，其全部的EUV光刻机出货量也才刚刚破百。按其当前的产能，要想满足三家芯片巨头的强势需求，ASML恐怕有心无力。
既然总出货量达不到市场需求，这三家厂商势必会展开激烈的争夺。在以往的光刻机采购中，仅是三星和台积电两家企业的光刻机抢购已趋于白热化，如今SK海力士的加入，将进一步加剧这种竞争。
