之所以说是高端光刻机是因为，咱们本身并不是对光刻领域一窍不通。只是在最高精尖的7纳米工艺以下的级别上可能有所欠缺。
事实上，对这项技术却有所欠缺的国家在全世界比比皆是，包括英法日本德国和美国皆是如此。因为高端光刻机本身就是一个集合了全球诸多顶尖企业和机构的核心技术在内的集大成机器。
如果我们只从理论技术层面看的话，咱们国家的技术大约和时下最先进的光刻机之间有至少15年的差距。这15年的差距是基本上没有办法通过加速来实现追赶甚至超越的。
现在的光刻机很多人看图片就像是一个规规矩矩的大方柜子。给人的感觉里面零部件好像也没什么特别高端的感觉。但是小编需要告诉你的是，这个大柜子的背后和内部是超过100000个零件的精密组合。
这些零件哪怕是一颗螺丝都是精工打造而来，安装的精密度非常高的。
它们之中包括了：美国在半导体工业领域最为先进的稳定技术、德国在穿透镜方面几乎顶尖的技术还有美国提供的特殊光源系统等等。
它们每一个都是目前咱们国家不具备的，而想要达到现在的水平如果从零开始需要花费的金钱时间成本堪称巨量。
可能我们只看见了ASML风光的几乎垄断全球市场，但是很多人不知道的是，2019年EUV光刻机才开始叫ASML出现真正的盈利。在过去的27年时间里，整个产业链的相关产业才相对成功的组合在了一起。我们知道在EUV光刻机上，ASML自身拥有的技术占比大约在40%左右。这是公司旗下27年的时间慢慢培养起来的一批顶尖垂直领域科学家们共同努力的结果。单单是这么一批人才，可以说都是这个公司的无价之宝。
而且不要忘记了，咱们现在开始追赶高端光刻技术，可是被追赶的人依旧在以更加成熟更加稳定的速度向更高端的方向推进。也许差距会被缩小，但是超越却难如登天。而且国外半导体领域相关的供应商很多对中国的态度是禁售，所以基本原料、重要部件难以购买。这就在另一个方面限制了中国加速研发高端光刻的进程。
所以说，高端光刻的制造和研发是一个脚踏实地一步一步的过程。这个过程基本没有办法依靠捷径进行加速和跨越。总的说起来十几年的时间已经是很保守的估计了。
